時光飛逝，時間已經進入21世紀，40年改革開放以來電子信息產業(yè)取得的巨大成績有目共睹！今天集成電路相關的技術和產業(yè)發(fā)展極快，令人難以想象，在當今這個高速信息時代，其以超摩爾定律的速度帶給社會生活無窮的創(chuàng)新和改變，推動著現代信息產業(yè)的快速發(fā)展。

掩模行業(yè)取得巨大技術進步

伴隨集成電路的發(fā)展，隨之而來的首先是半導體（集成電路）光刻技術的發(fā)展，光刻技術經歷了從最初的接觸/接近式光掩模技術起步，之后為了克服掩模缺陷和分辨率的進一步縮小，迫使工藝技術人員進一步尋求新的光刻方法來滿足批量生產和線寬縮小的要求，1976年美國GCA公司首先開發(fā)出了全球首臺分步重復投影曝光機系統，此后幾年間業(yè)界成功開發(fā)出具有更大曝光視場的步進掃描投影曝光機，隨著這種曝光技術的不斷成熟，進一步將集成電路圖形線寬推進到0.35μm節(jié)點，相應的掩模制版技術也得到了大幅提升。今天的世界最先進光刻技術已經跨越到了7nm。

20紀紀80年代初期伴隨著國內集成電路產業(yè)的發(fā)展，國內相關科研機構和工廠陸續(xù)開始進行集成電路用掩模研究和生產。改革開放的40年，掩模行業(yè)也從最初的零星的、分散的小廠和車間，技術水平10μm節(jié)點以上，發(fā)展到今天以凸版光掩模、華潤掩模工廠、無錫中微掩模以及中芯國際等內配掩模為主的規(guī)模企業(yè)，整體技術水平已經達到最高28nm節(jié)點，技術進步是巨大的，同時極大地縮小了與國際先進水平的差距，為產業(yè)發(fā)展打下了堅實基礎。

結合市場需求推進掩模項目

40年的改革開放帶來了我國經濟社會的深刻變化，也為我國集成電路產業(yè)的發(fā)展注入了新的生機與活力。無錫中微掩模的建設實踐成功印證了發(fā)展帶來的新活力！

集成電路技術和產品市場的變化極快，新技術、新工藝不斷快速涌現，只有很好地把握住市場需求變化的要求，緊跟市場變化的步伐，項目建設才能取得成功。無錫中微掩模項目的建設就是充分了解了國內掩模市場的需求和變化，針對國內已有晶圓代工和大量設計公司的現實需求和未來發(fā)展要求，經過充分論證而實施的。技術節(jié)點瞄準8英寸晶圓生產線的掩模需求，直接建成具備研發(fā)和生產130nm集成電路用掩模的公共服務平臺，項目投產后，發(fā)揮了應有的作用。

在集成電路技術發(fā)展迭代迅速的今天，產業(yè)融合模式創(chuàng)新成為當今企業(yè)在競爭中獲勝的重要因素。產業(yè)生態(tài)從最初的IDM模式正在向FABLESS、FOUNDRY模式分化，世界上主要的幾家專業(yè)大廠仍然以IDM的模式快速發(fā)展成為行業(yè)翹楚，但是另外更多地二線企業(yè)是向著既分工、又協同的合作發(fā)展模式轉變，也取得了不俗的成績。因此，國內掩模產業(yè)的發(fā)展更應該遵循合作發(fā)展的理念，要堅持中國特色發(fā)展之路，也要借鑒學習其他國外優(yōu)秀企業(yè)的發(fā)展經驗，摸索和走出一條適合國情的自我發(fā)展之路。

集成電路產業(yè)首先是一項系統工程，通常是資金密集、人才密集產業(yè)，項目建設起點越高投入資金越大。必須形成相應規(guī)模的生產、研發(fā)能力，具備一定的規(guī)模，形成規(guī)模經濟，才能保持良好的發(fā)展。同時為了緊隨不斷變化的市場需求和行業(yè)整體技術水平的不斷提升和產能的擴充，需要持續(xù)不斷地資金投入。在人才引進和培養(yǎng)方面要著力打造一支具備一流的工藝技術、芯片設計和管理人才隊伍，保證技術、產品的不斷創(chuàng)新和企業(yè)高效運營。在技術儲備和引進工作中要形成自有的先進工藝技術和芯片設計服務能力，擁有一批自主的知識產權和專利。

實踐證明，國內外集成電路產業(yè)大多采用集中人力物力，集中建設，上下游融合，抱團規(guī)劃共謀發(fā)展的戰(zhàn)略，行業(yè)發(fā)展更多的是相互合作，而不是單打獨斗的局面。集成電路用掩模產業(yè)的發(fā)展就是在這種背景和發(fā)展思路的指導下，逐步建立和發(fā)展起來的，行業(yè)內的企業(yè)間更多的是協同、合作、支持。

掩模項目的成功建設就是在政府的大力支持下，結合市場的細分了解和客戶需求，全面評估后作出的正確選擇，項目建成后取得了較好的社會效益和企業(yè)發(fā)展。

掩模產業(yè)發(fā)展迎來機遇期

我國集成電路產業(yè)發(fā)展面臨著前所未有的新機遇。一方面，我國逐步成為世界上集成電路最大的消費國，另一方面未來幾年國內和國際知名企業(yè)紛紛登陸中國建設新的晶圓廠。以上產業(yè)市場的積極變化，對掩模行業(yè)的配套發(fā)展可以說是重大歷史機遇，我們要在清醒認識自我的同時，抓住機遇，群策群力，全方位、大視野、大格局的有效開展項目論證和建設，擴大國際合作的深度與廣度，多渠道、全方位開展合作，實現掩模行業(yè)飛躍發(fā)展。

創(chuàng)新是產業(yè)發(fā)展的靈魂，是不竭的動力。掩模產業(yè)的創(chuàng)新發(fā)展應不僅停留在技術、管理上，更應該把制度、體制創(chuàng)新放在突出位置，激發(fā)人才的主觀創(chuàng)造性，最終打造出企業(yè)長期發(fā)展的核心競爭力。

當今科技和產業(yè)的發(fā)展，帶來了社會生活的巨大變革，我們注意到在物聯網、大數據、AI智能應用逐步普及的今天，集成電路的發(fā)展和應用需求發(fā)生著巨大的變化，以新能源、智慧產業(yè)、數據分析等領域的這些將深刻影響我們未來生活的應用，極大推動了半導體產業(yè)的發(fā)展，它將有可能成為影響未來經濟社會發(fā)展的大產業(yè)。

回首過去，我們滿懷信心！展望未來，我們壯志不已！相信集成電路掩模產業(yè)必將迎來發(fā)展的新時代！